高性能特種光學(xué)薄膜技術(shù)及應(yīng)用研討會

http://www.csoe.org.cn/2015BM/

2015年10月18-20日 成都

現(xiàn)代光學(xué)技術(shù)領(lǐng)域中，光學(xué)薄膜技術(shù)在需求的牽引下已經(jīng)成為產(chǎn)業(yè)化技術(shù), 它已涉及物理、化學(xué)、電子學(xué)、冶金學(xué)等學(xué)科，有著十分廣泛的應(yīng)用，尤其是在國防、通訊、航空、航天、電子工業(yè)、光學(xué)工業(yè)等方面有著特殊的應(yīng)用。為了推動我國高性能特種光學(xué)薄膜技術(shù)的發(fā)展，中國光學(xué)工程學(xué)會聯(lián)合多家單位舉辦光學(xué)薄膜技術(shù)及應(yīng)用研討會，將邀請?jiān)擃I(lǐng)域的知名專家和學(xué)者到會，并做專題講座；向從事高端光學(xué)薄膜制造和特性測試技術(shù)等科技人員介紹最新的光學(xué)薄膜技術(shù)進(jìn)展，并進(jìn)一步深入交流和探討光學(xué)薄膜應(yīng)用領(lǐng)域所取得的最新研究成果。機(jī)會難得，誠摯邀請光學(xué)薄膜技術(shù)領(lǐng)域的專家學(xué)者及企業(yè)界人士一同聆聽大家報(bào)告、探討最新研究成果。

歡迎相關(guān)領(lǐng)域的科研人員踴躍投稿。會議組委會屆時將推薦會議論文至國家公開出版的優(yōu)秀期刊（EI收錄）發(fā)表。

投稿須知：

會議邀請作者將原創(chuàng)的論文投往本會議，中英文稿兼收，全文投稿請于2015年10月10日之前登錄投稿網(wǎng)址：http://events.kjtxw.com/tougao/1426492990.html，注明2015薄膜會議。

論文發(fā)表：

·         英文稿件將被SPIE會議論文集收錄，會后兩個月出版，5個月EI檢索。

·         中文稿件推薦至《紅外與激光工程》（EI）、《光學(xué)精密工程》（EI）、《強(qiáng)激光與粒子束》（EI）、《太赫茲科學(xué)與電子信息學(xué)報(bào)》（科技核心期刊）、《中國光學(xué)》（科技核心期刊）正刊出版。

投稿截止時間：2015年10月10日(第一輪)

（無論有無投稿，均歡迎參會！）

主辦單位：
中國工程院電子信息學(xué)部
國家自然基金委員會
中國光學(xué)工程學(xué)會
承辦單位：
中國光學(xué)工程學(xué)會
中國宇航學(xué)會光電技術(shù)專業(yè)委員會
大會主席：

莊松林 院士（上海理工大學(xué)）

特邀專家報(bào)告：

程勇（解放軍武漢軍械士官學(xué)校），光學(xué)薄膜激光損傷研究

楊李銘（成都精密光學(xué)工程研究中心），

季一勤（航天三院8358所），
劉定權(quán)（上海技術(shù)物理研究所），空間應(yīng)用中的紅外光學(xué)薄膜，

王多書（中國航天科技集團(tuán)公司510所），空間集成光學(xué)薄膜，

李剛（中科院大連化物所），

易葵（中科院上海光機(jī)所），

程鑫彬（同濟(jì)大學(xué)），高損傷閾值激光薄膜

羅暉（國防科技大學(xué)），

李斌成（電子科技大學(xué)），光腔衰蕩技術(shù)在高性能光學(xué)薄膜檢測中的應(yīng)用

張大偉（上海理工大學(xué)），

劉衛(wèi)國（西安工業(yè)大學(xué)），薄膜微光學(xué)元件的制備與應(yīng)用鄭玉祥（復(fù)旦大學(xué)），

李紅東（吉林大學(xué)），

吳周令（合肥知常光電技術(shù)），

王京獻(xiàn)（西安北方杰瑞光電）